Industrialisasi, Sensor & Kontrol

Mesin Laser Pembangkit Cahaya Litografi EUV, Lompatan Kemajuan Teknologi

SharePerusahaan TRUMPF membuat mesin laser pembangkit litografi EUV  yang bermanfaat untuk komponen microchip modern pendukung kinerja smartphone, merupakan lompatan kemajuan terbaru di...

Written by Marinus L Toruan · 2 min read >

Perusahaan TRUMPF membuat mesin laser pembangkit litografi EUV  yang bermanfaat untuk komponen microchip modern pendukung kinerja smartphone, merupakan lompatan kemajuan terbaru di bidang teknologi.  Ahli Fraunhofer dan ZEISS bekerja sama dengan ahli TRUMPF

Salah satu mesin laser yang berguna untuk industriitermasuk manufaktur pembuat smartphone. Perusahaan TRUMPF  yang bermarkas di Jerman terkenal sebagai pembuat masin laser terkemuka di dunia. Mesin laser pembangkit cahaya litografi EUV (Foto/@: TRUMPF)

Salah satu keunggulan perusahaan TRUMPF adalah kepiawaiannya menciptakan dan membuat mesin laser yang merupakan bagian denyut jantung terkuat untuk industri di dunia.

Mesin Laser Pembangkit Cahaya Litografi EUV

TRUMPF juga yang memasok komponen kunci untuk memperkuat kemapanan microchip paling modern—digunakan di setiap ponsel cerdas atau smartphone modern. 

Menurut rilis Fraunhofer, tidak ada alternatif yang ekonomis untuk pengadaan mesin laser yang menghasilkan cahaya khusus untuk litografi EUV. Pihak TRUMPF menjelaskan, hanya pihaknya yang dapat membuat mesin laser yang sesuai kebutuhan litografi EUV.

EUV atau extreme ultraviolet lithography (kadang disingkat dengan EUVL) atau cahaya yang disebut ultraviolet ekstrem, merupakan teknologi litografi yang menggunakan rentang panjang gelombang ultraviolet ekstrem (EUV) yang mencakup bandwidth 2 persen FWHM (sekitar 13,5 nm).

Sementara itu, tanpa laser buatan TRUMPF, teknologi masa depan seperti artificial intelligence (AI) atau  kecerdasan buatan yang berfungsi sebagai penggerak otomatis tidak dapat diterapkan karena memerlukan banyak daya komputasi. 

Tiga nominator penerima Deutscher Zukunftspreis 2020 yang diserahkan pada 25 November 2020 di Berlin, Jerman, merupakan peringatan betapa pentingnya alat litografi EUV bagi Jerman sebagai pusat dan lokasi industri strategis di Eropa dan dunia.

“Bersama dengan mitra, kami senang dengan nominasi itu, yang mengakui upaya pengembangan sains yang kompleks dan mewujudkannya ke dalam teknologi yang mendominasi pasar global,” kata Dr. Markus Weber, anggota Dewan Manajemen Grup ZEISS merangkap kepala segmen Teknologi Manufaktur Semikonduktor di perusahaan optic yang terkenal dengan  optical and optoelectronic technology itu.

“ZEISS berkinerja sangat presisi bidang optik dan luar biasa. Hal itu selalu menjadi faktor kunci dalam produksi chip. Teknologi EUV dengan optik cermin yang dioperasikan secara vakum adalah inovasi lompatan jauh je depan dan membutuhkan kreativitas dan ketekunan untuk mewujudkan ide tersebut ke seri masa produksi, “ urai Dr. Markus Weber. 

Tim ahli berfoto di depan mesin laser industri yng berkerja dan terkuat di dunia. Mesin laser ini  digunakan untuk pembangkitan cahaya untuk mengaktifkan litografi EUV (dari kiri): Dr. Peter Kürz, ZEISS Division SMT, Dr. Michael Kösters, TRUMPF Lasersystems for Semiconductor Manufacturing, dan Dr. Sergiy Yulin, Institut Fraunhofer untuk Optik Terapan dan Teknik Presisi IOF. (Foto/@: Deutscher Zukunftspreis/Ansgar Pudenz)

Dr. Markus Weber  menambahkan bahwa kualitas dan bentuk sistem iluminasi dan resolusi optic maka proyeksinya menentukan seberapa kecil struktur microchip. Dengan teknologi litografi EUV  memungkinkan kemajuan besar dalam digitalisasi bisnis bagi masyarakat modern.

“Kami bangga dapat berkontribusi untuk hal ini bersama dengan mitra strategis kami ASML, TRUMPF, dan Fraunhofer,” ungkap Dr. Markus Weber. 

ASML adalah sebuah perusahaan tingkat internasional yang ahli di bidang rekayasa, desain, manufaktur semikonduktor. Perusahaan ini bermarkas di negeri Kincir Angin Berlanda. 

Teknologi inovasi sangat penting tertanam (masuk) di dalam optic berupa cermin. Karena penyimpangan sekecil apa pun dapat menyebabkan kesalahan pencitraan, dan cermin yang paling tepat yang dikembangkan sebagai pendukung teknologi litografi EUV. 

Sementara itu, Fraunhofer adalah lembaga yang bidang penelitiannya sangat penting dalam teknologi pelapisan canggih untuk cermin.

Fraunhofer adalah salah satu pelopor dalam teknologi semikonduktor. Di lembaga dan fasilitas yang kami miliki, para peneliti kami meneliti bidang litografi EUV selama tiga dekade. Peneliti memainkan peran utama dalam pengembangan cermin EUV yang pertama dan sumber pancaran, sehingga meletakkan dasar bagi terobosan teknologi EUV,” tutur Prof. Reimund Neugebauer, Presiden Fraunhofer-Gesellschaft. 

Prof. Reimund Neugebauer  menyatakan, berkat kerja sama intensif melihat jangka panjang perkembangan sains dan industri, pihknya berhasil membuat lompatan dan penerapan yang luas dalam bidang inovatif di seluruh dunia. 

Litografi EUV adalaht contoh luar biasa dari nilai tambah teknologi dan ekonomi yang dapat dicapai melalui kerja sama, semangat penelitian dan komitmen yang berkelanjutan,” tandas Prof. Reimund Neugebauer.

Penghargaan bagi penemu teknik yang inovatif dan pencapaian ilmiah melalui Deutscher Zukunftspreis yang dilaksanakan setiap tahun sejak 1997, merupakan salah satu penghargaan ilmiah terpenting untuk menghormati para ilmuwan dan peneliti di Jerman. 

Peristiwa itu merupakan wujud penghormatan atas pencapaian teknis, teknik, dan ilmiah (sains) yang luar biasa, dan menghasilkan produk yang siap untuk aplikasi dan dipasarkan ke dunia. 

Dalam proses beberapa tahap, dewan juri pada Deutscher Zukunftspreis memilih tiga tim peneliti dan inovasi dari sejumlah proyek besar setiap tahun. Kemudian para kandidat mencapai babak final penghargaan yang masuk ke Circle of the Best

Selain kinerja inovasi, dewan juri juga menilai potensi ekonomi dan sosial dari pembangunan tersebut. Hadiah bagi para ahli diserahkan oleh Presiden Federal Jerman, Frank-Walter Steinmeier pada 25 November 2020 di Berlin, Jerman. 

Herzlichen Glückwunsch an die besten Forscher!

Leave a Reply

Your email address will not be published. Required fields are marked *